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A-Z晶體及材料加熱爐系列樣品處理設(shè)備電池制備設(shè)備分析檢測設(shè)備其他實驗室設(shè)備技術(shù)支持/服務(wù)培訓(xùn)

加熱爐設(shè)備
晶體及材料
破碎/球磨設(shè)備
壓片設(shè)備
輥壓設(shè)備
切割設(shè)備
磨拋設(shè)備
清洗設(shè)備
電池研發(fā)設(shè)備
薄膜制備
配件
其它實驗室設(shè)備

熱處理設(shè)備: 管式爐箱式爐箱管混合

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加熱方式: 電阻加熱紅外燈管加熱感應(yīng)加熱微波加熱

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加熱形式: 常規(guī)爐立式箱管混合式回轉(zhuǎn)爐

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加熱溫度: 300-1200 1250-1500 1600-2000

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加熱溫區(qū): 單溫區(qū) 雙溫區(qū) 三溫區(qū) 多溫區(qū) 感應(yīng)加熱專用

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管徑: ф?25 ф?50 ф?60 ф?80 ф?100 ф?120及以上

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資料支持

實驗知識分享與工藝指導(dǎo)

工藝指導(dǎo) —— 扣式電池如何組裝工藝指導(dǎo)—— 實驗室氧化物靶材是如何制備的工藝指導(dǎo)——管式爐排膠實驗工藝指導(dǎo) —— 磁控濺射鉛薄膜制備工藝指導(dǎo) —— 鎂合金淬火工藝指導(dǎo) —— LaAIO3單晶基片制備流程工藝指導(dǎo) —— TGA不銹鋼氧化增重趨勢探究工藝指導(dǎo) —— 磁控濺射鍍硅工藝指導(dǎo) —— 金屬陶瓷復(fù)合物拋光工藝指導(dǎo) —— 灰化爐燃燒萘實驗工藝指導(dǎo) —— 閃燒爐新型陶瓷燒結(jié) 工藝指導(dǎo) —— 冷等靜壓制備設(shè)備解析 —— 實驗室靶材制備成套設(shè)備設(shè)備解析 —— 扣式電池組裝成套設(shè)備設(shè)備解析 —— 全自動加熱爐操作機(jī)器人設(shè)備解析 —— RTP高溫高壓氫氣爐自動化系統(tǒng) 設(shè)備解析 —— 尾氣處理裝置設(shè)備解析 —— 桌面式TGA 設(shè)備解析 —— 高安全規(guī)格輥軋設(shè)備設(shè)備解析 —— 真空平板熱壓機(jī) 知識分享 —— 晶體生長的總流程知識分享 —— 混料方式對樣品均勻度及粒徑分布的探索研究知識分享 —— 提拉法晶體生長知識分享 —— 布里奇曼法晶體生長知識分享 —— 干法電極制備

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