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反射光譜薄膜測厚儀(可測量15nm-50um)
型號:
TFMS-LD
產(chǎn)品概述:
TFMS-LD是一款反射光譜薄膜測厚儀,可快速精確地測量透明或半透明薄膜的厚度,其測量膜厚范圍為15nm-50um,儀器所發(fā)出測試光的波長范圍為400nm-1100nm。此款測試系統(tǒng)理論基礎(chǔ)為鏡面反射率,并且采用光纖反射探頭。儀器尺寸小巧,方便于在實(shí)驗(yàn)室中擺放和使用。
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測量膜厚范圍

? 15nm-50um


光譜波長

? 400 nm - 1100 nm


主要測量透明或半透明薄膜厚度

? 氧化物

? 氮化物

? 光刻膠

? 半導(dǎo)體(硅,單晶硅,多晶硅等)

? 半導(dǎo)體化合物(ALGaAs,InGaAs,CdTe,CIGS等)

? 硬涂層(碳化硅,類金剛石炭)

? 聚合物涂層(聚對二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)

? 金屬膜(點(diǎn)擊圖片可查看詳細(xì)資料)


 TFMS-LD 1.png TFMS-LD 2.png

特點(diǎn)

? 測量和數(shù)據(jù)分析同時(shí)進(jìn)行,可測量單層膜,多層膜,無基底和非均勻膜

? 包含了500多種材料的光學(xué)常數(shù),新材料參數(shù)也可很容易地添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等

? 體積較小,方便擺放和操作

? 可測量薄膜厚度,材料光學(xué)常數(shù)和表面粗糙度

? 使用電腦操作,界面中點(diǎn)擊,即可進(jìn)行測量和分析


精度

? 0.01nm或0.01%


準(zhǔn)確度

? 0.2%或1nm


穩(wěn)定性

? 0.02nm或0.02%


光斑尺寸

? 標(biāo)準(zhǔn)3mm,可以小至3um


要求樣品大小

? 大于1mm


分光儀/檢測器

? 400 - 1100 nm 波長范圍

? 光譜分辨率: < 1 nm

? 電源 100 -250 VAC, 50/60 Hz 20W

 TFMS-LD 3.jpg


光源

? 5W的鎢鹵素?zé)?/p>

? 色溫:2800K

? 使用壽命:1000小時(shí)


反射探針

? 光學(xué)纖維探針,400um纖維芯

? 配有分光儀和光源支架


栽樣臺

? 測量時(shí)用于放置測量的樣品

 TFMS-LD 4.jpg

通訊接口

? USB接口,方便與電腦對接


TFCompanion軟件

? 強(qiáng)大的數(shù)據(jù)庫包含500多種材料的光學(xué)常數(shù)(n:折射率,K:消失系數(shù))


 TFMS-LD 5.jpg


? 誤差分析和模擬系統(tǒng),保證在不同環(huán)境下對樣品測量的準(zhǔn)確性

? 可分析簡單和復(fù)雜的膜系

 TFMS-LD 6.jpg


設(shè)備尺寸

? 200x250x100mm


重量

? 4.5kg


1、通過橢偏儀、SEM、反射光譜測厚儀(進(jìn)口、國產(chǎn))三者檢測結(jié)果的對比,薄膜厚度偏差< 2 nm。


2、沈陽TFMS-IV膜厚儀與美國TFMS-LD薄膜測厚儀測量膜厚的平均值相差 2 nm;


3、反射光譜側(cè)厚相比于SEM測厚,操作更加便捷,對操作人員要求并不高。


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應(yīng)用技術(shù)提示


·廠家配備的校準(zhǔn)基片,請勿丟失。


·校準(zhǔn)基片在使用時(shí),要注意操作規(guī)范,請勿劃傷或污染基片。


·使用結(jié)束后,需要用無塵布將設(shè)備鏡頭和樣品臺面蓋住。


·測試過程需要在較為潔凈的環(huán)境下進(jìn)行。


·待測基片在檢測前要注意保管和清洗,防止出現(xiàn)檢測樣品偏差過大。


·檢測金屬需要注意薄膜厚度,只有低于40或50nm厚度的金屬膜才可以被測量。較厚的金屬膜是不透明的,因此不能用TFMS-LD測量,實(shí)際測量厚度取決于金屬類型。假定金屬膜表面是光滑的,下表顯示了幾種金屬的可測量厚度。

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·表面粗糙度會引起散射使測量厚度減小。




警示


·不要直視光源或探頭,以免傷害眼睛。


·一定要確保光纖探頭端口連接。


·光纖不可過度彎折。


·鏡頭不可使用粗糙物擦拭,防止造成鏡頭劃傷,影響檢測。




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